平行曝光機主要用于光刻膠曝光．本系統由光源部份(采用日本ORC或國產曝光頭)、玻璃搬送架、菲林基板自動浮動裝置、玻璃真空吸附平臺、玻璃自動推定位裝置、平臺升降裝置、光源快門控制系統等幾部分組成，玻璃由搬送架進入曝光區域后對位、吸真空、曝光、卸玻璃等動作全部自動完成. 技術能數： PASSLINE ：900±25mm 流動方向 ：從左至右1臺，從右至左1臺（面對操作面） 基板尺寸 ：370×470mm（寬度方向為370mm） 基板厚度 ： 0.4～1.1mm 處理能力 ：18秒/片（80mj曝光時間4SEC） 外觀 ：SUS304鏡面板及防紫外有機玻璃板 設備機構及性能： 曝光工作臺： 曝光平臺材質 ：硬鋁合金，表面黑色氧化處理。 玻璃基板定位方式：自動PIN對位。 重復定位精度 ：±0.03mm 基板固定方式 ：真空吸著固定玻璃基板。 基板傳送方式 ：托架搬運。 臺面平面精度 ：±0.01mm。 工作臺上下方式 :伺服電機+滾珠絲杠。 曝光間隙調整 :自動 不同厚度玻璃切換:自動調整平臺上升高度 基板流向 ：面向操作面，從左至右（或從右至左） 鉻版更換方式 ：手動更換 |
